经过科学家们的研究，单层的单晶石墨烯在不久的将来或将成为超高分辨率透射电镜成像和光学设备的材料。

　　研究团队将铜箔被石墨烯薄膜所覆盖，改进了化学气相沉积(CVD)生长方法。如此一来铜箔上的所有碳杂质就被消除。单层石墨烯薄膜上被留下了平行“褶皱”，褶皱之间的区域制造集成高性能器件。使得该器件具有很高的电子迁移率和空穴迁移率。

　　单层石墨烯，指由一层以苯环结构周期性紧密堆积的碳原子构成的一种二维碳材料。

　　石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性，在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景。

　　化学气相沉积(CVD)生长方法

　　将单层石墨烯在Ir表面上生成，通过进一步研究可知，这种石墨烯结构可以跨越金属台阶，连续性的和微米尺度的单层碳结构逐渐在Ir表面上形成。

　　毫米量级的单晶石墨烯是利用表面偏析的方法得到的。厘米量级的石墨烯和在多晶Ni薄膜上外延生长石墨烯是由部分学者发现的，在1000℃下加热300纳米厚的Ni 膜表面，同时在CH4气氛中进行暴露，经过一段时间的反应后，大面积的少数层石墨烯薄膜会在金属表面形成。

　　金属箔的种类有赤金、银箔、铜箔和铝箔几种,铜箔具有低表面氧气特性,可以附着与各种不同基材,如金属,绝缘材料等,拥有较宽的温度使用范围。主要应用于电磁屏蔽及抗静电,将导电铜箔置于衬底面,结合金属基材,具有优良的导通性,并提供电磁屏蔽的效果。可分为：自粘铜箔、双导铜箔、单导铜箔等 。

　　电子级铜箔(纯度99.7%以上，厚度5um-105um)是电子工业的基础材料之一电子信息产业快速发展，电子级铜箔的使用量越来越大，产品广泛应用于工业用计算器、通讯设备、QA设备、锂离子蓄电池，民用电视机、录像机、CD播放机、复印机、电话、冷暖空调、汽车用电子部件、游戏机等。国内外市场对电子级铜箔，尤其是高性能电子级铜箔的需求日益增加。有关专业机构预测，到2015年，中国电子级铜箔国内需求量将达到30万吨，中国将成为世界印刷电路板和铜箔基地的最大制造地，电子级铜箔尤其是高性能箔市场看好。

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