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原子层沉积系统

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原子层沉积系统

原子层沉积系统

原子层沉积系统是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层沉积系统是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。
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台式三维原子层沉积系统ALD

辽宁11选5开奖台式三维原子层沉积系统ALD

  • 品牌: 美国ARRADIANCE
  • 型号: GEMStar XT
  • 产地:美国
  • 供应商:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司

    美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可最 多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03% 以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上实现膜厚的不均匀性优于99%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500: 1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。

台式三维原子层沉积系统ALD

台式三维原子层沉积系统ALD

  • 品牌: 美国ARRADIANCE
  • 型号: GEMStar XT
  • 产地:美国
  • 供应商:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司

    * 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制 * 175℃温控150ml前驱体瓶,200℃温控输运支管 * 可容纳多片4,6,8英寸样品同时沉积 * 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体 * 标准CF-40接口 * 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 * 等离子体辅助ALD插件 * 多种配件可供选择

P-300S 生产线型原子层沉积机

P-300S 生产线型原子层沉积机

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-300S
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现; 25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现。

P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机

辽宁11选5开奖P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-300F,P-300BV
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    PICOSUN P-300F Pro ALDPICOSUN P-300BV Pro ALD技术参数 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)工艺温度: 50 - 300 °C基片传送选件:。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现。 。P-300BV Pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载,用真空批量load lock实现标准 。 P-300F Pro: SEMI S2 认证   。P-300BV Pro: SEMI S2 认证(认证中)前驱体 : 。液态、固态、气态、臭氧源 。前驱源余量传感器, 并提供清洗和装源服务 。6根独立源管线,最多加载8个前驱体源重量: 820 kg尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm选件: 集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。验收标准: 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如               - 不均匀性               - 颗粒物含量               - 重金属污染               - 电学性能

P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机

P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-200S Pro
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    PICOSUN P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机 技术参数衬底尺寸和类型:  。50 – 200 mm /单片  。156 mm x 156 mm 太阳能硅片  。150 mm x 150 mm 显示面板工艺温度: 50 - 500 °C , 可选更高温度基片传送选件 :  。气动升降(手动装载)  。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现  。25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现标准: SEMI S2 认证(认证中)前驱体:  。 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(最多4路气体):  。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务  。6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)重量 :790 kg尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm可选件 :集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。验收标准 :。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,        。其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:         - 不均匀性         - 颗粒物含量         - 重金属污染         - 电学性能一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成,带等离子体源PICOPLASMA™。

芬兰 Picosun R-200 高级型原子层沉积机

芬兰 Picosun R-200 高级型原子层沉积机

芬兰 PICOSUN R-200标准型ALD

芬兰 PICOSUN R-200标准型ALD

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: R-200标准型
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极 佳的均匀性,包括zui具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。

P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机

P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-300B Advanced
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    液态,固态,气态,臭氧源; 前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务; ​4根独立源管线,最多加载6个前驱体源。

P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机

辽宁11选5开奖P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-300 Advanced
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    PICOSUN P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机衬底尺寸和类型:   。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背)  。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背)  。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等)  。粉末与颗粒  。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm  。多孔,通孔,与高深宽比(HAR)样品工艺温度: 50 - 500 °C基片传送选件:  。气动升降(手动装载) 。半自动装载,用线性装载器实现 。全自动转载,用工业机器人实现前驱体 : 。液态、固态、气态、臭氧源 。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务 。4根独立源管线,最多加载6个前驱体源重量: 400 + 300 kg尺寸 :(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm选件: PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。验收标准 :标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 

PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机

PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机

  • 品牌: 芬兰Picosun
  • 型号: P-1000 Pro
  • 产地:芬兰
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    辽宁11选5开奖 PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机技术参数:衬底尺寸和类型 。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背) 。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度: 50 - 500 °C基片传送选件: 。气动升降(手动装载,带叉车forklift cart) 。全自动转载,用工业机器人实现前驱体:  。液态、固态、气态、臭氧源 。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务 。8根独立源管线,最多加载12个前驱体源重量: 2000 kg尺寸:(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm选件: PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。验收标准: 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 

德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积

德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积

  • 品牌: 德国Sentech
  • 型号: PE-ALD
  • 产地:德国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积,SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验,包括专有的PTSA技术,推出第一台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪,使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。

Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备

Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备

  • 品牌: 牛津仪器
  • 型号: Oxford System 100
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。 可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力。

美国 Nano-master ALD/PEALD原子层沉积机 NLD-4000

美国 Nano-master ALD/PEALD原子层沉积机 NLD-4000

  • 品牌: 美国Nano-Master
  • 型号: NLD-4000
  • 产地:美国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    大面积过滤器用于捕捉未反应的前驱体; 高深宽比结构的涂覆; 全自动计算机控制,菜单驱动; LabVIEW友好用户界面; EMO和安全互锁; 占地面积仅24”x44”带封闭面板的柜体对超净间很理想。辽宁11选5开奖

德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机

德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机

  • 品牌: 德国Sentech
  • 型号: 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机 PE-ALD
  • 产地:德国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机,是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。

牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备

牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备

  • 品牌: 牛津仪器
  • 型号: OpAL
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备,紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统,OpAL提供了专业的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。

ALD原子层沉积设备-SVT

ALD原子层沉积设备-SVT

  • 品牌: 美国SVT Associates
  • 型号: ALD-05
  • 产地:美国
  • 供应商:美国SVTA公司中国办事处

    美国SVT公司ALD原子层沉积系统自1990年来薄膜淀积设备顶级制造商。拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务实验室7台应用淀积设备生长出世界级的材料多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的顶级供应商。NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛。设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便。NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器。原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。可以直接升级至超高真空提供工艺演示以及工艺培训服务为潜在客户提供免费样品测试。应用领域:High-K电介质纳米涂层MEMS光子晶体扩散阻挡层器件封装表面改性层技术参数:为科研客户量身打造最先进的原子层沉积系统。提供4"、6"、8"、12"等多种尺寸的样品平台。针对客户的需求,提供多种输气设计。---可控真空度: 1 Torr to UHV---气道加热---气体快速进出---样品尺寸: 4in standard, optional 12in---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp主要特点:最安全的设计,多样化的配置,全方位的测试手段。精确的控制手段打造完美的成膜质量。强大的科研团队铸就领先的科技实力。---气体离子化---臭氧输送装置---石英振荡器---四重质量分光计---实时温度显示---椭偏仪---进样室

烘烤控制器

烘烤控制器

  • 品牌: 北京中科艾科米
  • 型号: BC206
  • 产地:北京
  • 供应商:中科艾科米(北京)科技有限公司

    主要特点  7” LCD触摸显示  6路输出通道和温度测量  带自整定的PID自控算法  温度测量:K型热偶  温度模式和电压模式可切换  远程控制及诊断  多种接口类型:USB,Ethernet  U盘一键固件升级 辽宁11选5开奖

原子层沉积系统

原子层沉积系统

  • 品牌: 北京中科艾科米
  • 型号: ALD-V301
  • 产地:北京
  • 供应商:中科艾科米(北京)科技有限公司

    主要特点  真空反应腔工作温度高达400℃  PID自动控温,带模糊算法自整定  复杂管气路可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气  满足特殊样品(粉末)要求  适合低蒸气压固态源的高温鼓泡器设计,有利于提高反应效率和重复性  反应过程可自行编程,实现不同类型ALD样品生长  全金属密封,适用于腐蚀性反应  实时测控气体流量和监测真空度  在线原位分析气体成分  自带臭氧发生器,反应残留物热分解装置  互联版可与超高真空系统互联,并兼容MBE标准旗型样品托  系统可定制和扩展

Diener P300 聚对二甲苯涂层系统

Diener P300 聚对二甲苯涂层系统

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: P300
  • 产地:德国
  • 供应商:上海尔迪仪器科技有限公司

    简介:聚对二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里纶(Parylene),是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称,它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性,主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二甲苯)和 Parylene D(聚二氯对二甲苯)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基,再导入成膜室在成膜物体表面冷凝并迅速聚合,得到均匀致密的聚对二甲苯薄膜。聚对二甲苯薄膜涂层特点:聚对二甲苯薄膜无色透明,膜厚0.1μm 时仍无针孔。它的化学性能稳定 ,有优良的机\电\热和生物相容性,对气体有良好的阻挡作用,还能提高被抱覆物的耐摸性,同时是一种能防潮\防霉\防酸碱\耐辐照的高品质防护涂层。聚对二甲苯薄膜涂层的优良特性,使其在许多高科技领域具有广阔的应用前景 。Parylene涂层在电子领域应用极其广泛,主要用于:电路板,半导体器件,集成电路,混合微电路, 混合微电路,电容器,微型电机和铁氧体;在光学和光电领域主要用于光学光电器件,复印技术光电感光体,激光存储和记录器件;在生物医学领域用于人工假体,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天领域主要用在航空航天器上,用于绝缘保护。Diener P300聚对二甲苯涂沉系统技术参数:涂层材料;聚对二甲苯 N,C,D涂层厚度:0.05~100μm加热炉:4kW/Max.850℃沉积室:Dia.700*H720mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.600mm*H600mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 65m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:40mm tubeDimensions:W2700*D2200*1600mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz尔迪仪器提供优质的售前售后服务.

Diener P30 聚对二甲苯涂层系统

Diener P30 聚对二甲苯涂层系统

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: P30
  • 产地:德国
  • 供应商:上海尔迪仪器科技有限公司

    简介:聚对二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里纶(Parylene),是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称,它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性,主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二甲苯)和 Parylene D(聚二氯对二甲苯)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基,再导入成膜室在成膜物体表面冷凝并迅速聚合,得到均匀致密的聚对二甲苯薄膜。聚对二甲苯薄膜涂层特点:聚对二甲苯薄膜无色透明,膜厚0.1μm 时仍无针孔。它的化学性能稳定 ,有优良的机\电\热和生物相容性,对气体有良好的阻挡作用,还能提高被抱覆物的耐摸性,同时是一种能防潮\防霉\防酸碱\耐辐照的高品质防护涂层。聚对二甲苯薄膜涂层的优良特性,使其在许多高科技领域具有广阔的应用前景 。Parylene涂层在电子领域应用极其广泛,主要用于:电路板,半导体器件,集成电路,混合微电路, 混合微电路,电容器,微型电机和铁氧体;在光学和光电领域主要用于光学光电器件,复印技术光电感光体,激光存储和记录器件;在生物医学领域用于人工假体,埋入式器件,血液分析器等;在航空航天领域主要用在航空航天器上,用于绝缘保护。Diener P30聚对二甲苯薄膜涂层系统技术参数:涂层材料;聚对二甲笨 N,C,D涂层厚度:0.05~100μm加热炉:4kW/Max.700℃涂层腔体尺寸:D310*H500mmGas injection:homogenous dispersal systemCarrousel:Dia.150mm*H270mmPumping system:two-stage rotary vane suction power 25m3/hUltimate pressure:1*10-3mbarContral:Full PC based contral system on Windows-basedCompressed air:6bars oil free and dryExhaust:25mm tubeDimensions:W1400*D700*1700mmConnections:3phase/400V/16A/50,60Hz尔迪仪器提供优质的售前售后服务.

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