供应商：华仪行（北京）科技有限公司

采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠； 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确； 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定； 弧形电极板设计，清洗更完全； 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈； 手动、自动两种工作模式，可根据客户需求任意切换； 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单； 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程； 无需任何耗材，使用成本低； 无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可； 整机保修一年。

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等离子清洗机等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体柔柔冲洗被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子清洗机的清洗分类：  反应类型分类        等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面zui终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。        以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性；缺点就是对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较，化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。        典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。  激发频率分类  等离子态的密度和激发频率有如下关系：  nc=1.2425×108v2  其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。  常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。  不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响zui大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。等离子清洗机应用领域：      包装行业：专业针对UV OPP PP PET金银卡　磨光，覆膜纸盒或纸箱上胶前的表面处理，经等离子处理后，可增加糊盒的牢固性，摆脱开胶烦恼。并可减少胶水使用量，有效降低成本。　　印刷及喷码行业：塑料　玻璃　金属　复合材料等表面丝印，移印前等离子预处理，可提高材料表面对油墨的吸附力，渗透力。IC卡　标签，日化用品容器。电线喷码前等离子预处理，提高油墨吸附力。　　塑料行业：塑料与塑料，橡胶，金属，玻璃等粘结前预处理，可提高表面的粘结性能。手机电脑玩具等塑料外壳喷漆前预处理，提高油漆的附着力，防止掉漆。　　日用品及家电行业：日用主家电产品在生产过程中的涂装，粘接等工艺，使用等离子预处理提高材料表面的加工性能，提高粘接和涂装的品质，别外等离子清洗作用使溶剂清洗不再需要，即环保又节省了大量的清洗干燥时间。　　汽车行业：　１、EPDM胶条在喷涂润滑涂层或植绒胶水以前的预处理工艺，借助等离子技术，胶条的预处理过程变得更加稳定高效，而且没有磨损。　２、汽车车灯粘接，刹车片，雨刮，引擎控制器盖，汽车仪表，汽车保险杠等等都可使用等离子表面处理，清洁，活化部件的表面，增强表面的粘结力，吸附力。　３、汽车部件喷漆前的表面活化，使用等离子处理，水性涂装体系都可以做到无需底漆。　４、电子行业：电子元器件加工的等离子预处理，PCB的清洗，去静电，LED支架，晶圆，IC等的清洁或是粘结等作用。　５、其它行业：化纤　纺织，航天航空，卷材涂装等等。　　电子行业：半导体材料光刻　　胶清洗：光学材料镀膜，加硬前清洗。　　LCD玻璃印刷，贴合，封装前清洗，LED点银胶，引线键合，封胶前清洗，可提升产品质量。　　PCB电路板孔化，除渣，绑定处理，可提升镀铜结合力和焊接成功率。　　橡胶塑料行业：提高材料粘接强度以及印刷油墨，涂层，镀层附着力。　　纤维纺织行业：生产电池用无纺布隔膜，水处理用中空纤维及各种天然纤维，合成纤维经等离子处理可改善和提高其渗透性，亲水性，印染性等多种功能。精密仪器，机械及电器制造：继电器触点氧化层去除，精密零件表面油污，助焊剂等有机物清洗。电子点火器线圈骨架灌封环氧树脂前处理提高其粘接性及结合力。　　生物医用材料：聚笨乙稀酶标板经等离子接枝处理，引入醛基，氨基，环氧基等活性官能团，可把酶牢牢地固定在载体上面，提高酶的固定；细胞培养皿，经等离子处理后，大大提高了贴壁培养细胞的能力。　生物传感器的电极碳膜经过等离子活化，提高了酶和抗体固定的稳定性，实现电极重复使用。　血液过滤器的内壁和滤芯都需要等离子体的抗血凝处理，以提高其过滤能力和使用寿命。CPC-B美国CIF等离子清洗机产品特点：v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠；v 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确；v 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；v 弧形电极板设计，清洗更完全；v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈；v 手动、自动两种工作模式，可根据客户需求切换；v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单；v 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；v 无需任何耗材，使用成本低；v 无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；v 整机保修一年。CPC-B美国CIF等离子清洗机技术参数：

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v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠； v 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确； v 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定； v 专利的弧形电极板设计，清洗更完全； v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈； v 手动、自动两种工作模式，可根据客户需求切换； v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单； v 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程； v 无需任何耗材，使用成本低； v 无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可； v 整机保修一年。

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等离子清洗机CPC-B-13。56美国CIF公司所生产的等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。等离子清洗机CPC-B-13。56清洗原理：    等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。    等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机CPC-B-13。56应用领域：    等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学  生物学等不同领域,主要用于以下实验：v 表面清洁  v 表面活化 v 键合 v 去胶 v 金属还原 v 简单刻蚀 v 器械的消毒v 去除表面有机物 v 疏水实验v 镀膜前处理等等离子清洗与传统湿法清洗九大优势：v 等离子体清洗技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗；v 等离子清洗是干性清洗,无需再次干燥处理,处理效率高；v 等离子清洗有效避免三氯乙烷等有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗对样品的损坏；v 等离子清洗不会产生有害污染物,绿色环保无污染；v 等离子清洗更完全,不会因为清洗样品的形状和角度清洗不干净；v 等离子清洗效率高,几分钟内即可完成；v 等离子清洗设备成本低,由于不使用价格昂贵的有机溶剂,所以整体成本低于传统的湿法清洗；v 等离子清洗清洁卫生,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施；v 等离子体清洗可改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等。等离子清洗机CPC-B-13。56产品特点：v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠；v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确；v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定；v 弧形电极板设计,清洗更完全；v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈；v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换；v 触摸按键+4。3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单；v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程；v 无需任何耗材,使用成本低；v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可；v 整机保修一年。等离子清洗机CPC-B-13。56技术参数：序号型号CPC-ACPC-BCPC-A-13。56CPC-B-13。561舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm2舱体容积2。6L5。2L2。6L5。2L3射频频率40KHz13。56MHz4射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调5电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ6电 流1。2A1。2A7时间设定1-99分59秒1-99分59秒8气体稳定时间1分钟1分钟9真空度100pa以内100pa以内10激发方式电容式电容式11外形尺寸L*W*H 460X580X220mm520X580X285mm460X580X220mm520X580X285mm12整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg 

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土壤有机碳消解仪又名土壤有机碳恒温加热器 ，CIF所生产的土壤有机碳消解仪采用环绕立体加热技术，消解快速、高效、便捷。并且严格按照国标法生产的消解土壤有机碳的仪器设备。本产品适用于国标《HJ 615-2011 土壤有机碳的测定 重铬酸钾氧化-分光光度法》，Soil–Determination of Organic Carbon–Potassium Dichromate Oxidation Spectrophotometric Method。可同时消解24-48个样品，主要适用于各行业中土壤中有机碳的测定。

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技术特点： 1.舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料，耐用、防腐容易清洁。 2.仪器实现了手动，自动两种模式任意切换的工作方式，方便用户实验 3.仪器实现了程序化设计，预先编辑好程序，仪器可以自动完成实验 4.无需任何耗材使用成本低，无需特殊进行维护,日常使用保持仪器清洁即可 5.电容式等离子激发，处理效果均匀，激发电极板内置样品仓内顶部悬挂 6.密闭真空环境下完成实验避免二次污染 7.40Khz射频电源,自主研发质量稳定可靠，具有自动保护功能。 8.灵活的参数设置和修改功能，可适应多种处理工艺。 9.采用皮拉尼真空技术，实时检测和显示样品仓的真实真空度，具有1Pa的真空分辨率，能够方便的接入MFC气体流量控制仪，实现对气体流量和真空度的精准控制和监测。 10. LED+金属按键控制方式，操作方便稳定可靠。

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技术特点： 1.舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料，耐用、防腐容易清洁。 2.仪器实现了手动，自动两种模式任意切换的工作方式，方便用户实验 3.仪器实现了程序化设计，预先编辑好程序，仪器可以自动完成实验 4.无需任何耗材使用成本低，无需特殊进行维护,日常使用保持仪器清洁即可 5.电容式等离子激发，处理效果均匀，激发电极板内置样品仓内顶部悬挂 6.密闭真空环境下完成实验避免二次污染 7.40Khz射频电源,自主研发质量稳定可靠，具有自动保护功能。 8.灵活的参数设置和修改功能，可适应多种处理工艺。 9.采用皮拉尼真空技术，实时检测和显示样品仓的真实真空度，具有1Pa的真空分辨率，能够方便的接入MFC气体流量控制仪，实现对气体流量和真空度的精准控制和监测。 10. LED+金属按键控制方式，操作方便稳定可靠。

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1.表面清洁 2.表面活化 3.键合 4.去胶 5.金属还原 6.简单刻蚀 7.去除表面有机物 8.疏水实验 9.镀膜前处理等 1．实时显示检测样品仓内的真空度 *2．舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料，耐用防腐蚀 *3.采用电容式等离子激发，处理效果均匀，激发电极板内置样品仓内顶部悬挂 *4．手动，自动两种模式任意切换 5．程序化设计，预先编辑好程序，仪器自动完成实验 6.控制系统：采用触摸屏+内置计算机控制 7.无需任何耗材，使用成本低，无需特殊进行维护，在日常使用中保持仪器清洁即可

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德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用zui先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的zui优质产品，以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备多种系列： Diener等离子表面处理设备  PICO PCCE 全自动  主要技术参数： *全自动PCCE控制系统,可存储50套程序。*根据工艺要求不同，可设定真空泵启动与停止、发生器的功率、反应腔体压强、气体流量与时间等参数双路工作气体，MFC质量流量计*反应舱为方形铝制腔体w: 150 mm, h: 160 mm, d: 325 mm带有铰链门，门带有观察窗。*发生器100 kHz, 0 – 500 W连续可调，反射波自动调节。电极材质为铝制。真空泵抽气能力8m3/h*配有压力传感器，实时显示压力值电源电压：单相AC230V 16A 配置清单： 数量备注主机一台Diener PICO真空泵（国内采购）一台VRD-8油泵电源线一根2mm操作说明书一本 操作面板

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10.5升的LOW-COST PLASMA-LABORANLAGE ATTO为手动型,配有PC和PCCE控制系统，主要用于以下领域:.小批星生产.分析(REM, TEM).医疗技术.灭菌.研究和开发部门.考古.纺织技术.塑料技术

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德国Diener electronic成立于1993年,是世界低温等高子工业的领导者。是一家专门研发和制造低温低压等离子清洗机、等离子射频电源和大气(常压)等离子清洗机的高科技企业。用途:Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40KHz、13。56MHz和2。45GHz三种射频发生器,以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。Diener等离子清洗/刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点,主要适合于高科技生产单位的以下场合:半导体开发、集成电路开发、真空电子行业、生命科学实验等等。Diener等离子清洗/刻蚀机具有以下特点:可以更灵活地操作,简便地改变处理气体的种类和处理程序；不会对操作人员的身体造成任何伤害；其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。Femto等离子系统能够以不同的形式进行整合,例如以模块系统的形式。Femto 等离子系统主要应用于以下领域:分析考古汽车行业研究和开发部门半导体技术小批量生产塑料技术医疗技术微系统技术传感器灭菌纺织技术

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Pico等离子系统能够以不同的形式进行整合,例如以模块系统的形式。Pico 等离子系统主要应用于以下领域:分析考古汽车行业研究和开发部门半导体技术小批量生产塑料技术医疗技术微系统技术传感器灭菌纺织技术技术参数

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技术参数系列Nano系列控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积18~36L真空腔室圆形不锈钢件，配有盖子（大约 Φ 267 mm, 长 420 mm 或者长 600 mm）或者矩形不锈钢件，配有铰链的门（约宽 240 mm x 高 240 mm x 深 420 mm 或者 600 mm）配有盖子的圆形铝材，或者配有铰链的门（大约Φ  240 mm, 长 400 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约Φ 240 mm, 长 400 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形硼硅玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约Φ  240 mm, 长 400 mm 或者长 600 mm）电极单层或多层RIE样品支架（选项：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron（适用于腐蚀性气体版本）计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 300 W；0 -1000 W13.56 MHz: 功率 0 - 100 W；0 - 300 W2.45 GHz: 功率 0 - 600 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵规格和制造商均各有不同（按照活性炭过滤器的需要）电源台式设备为 230 V，立式设备为 400 V/3 相位 

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德国 PVA TePla 等离子清洗机IoN 100 WB等离子清洗机可以迅速快捷的更换不同类型的电极结构。

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德国 PVA TePla 等离子清洗机IoN 40，灵活的电极设计保证了工艺的均匀性

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德国 PVA TePla 等离子清洗机PlasmaPen 常压等离子，通过清洁和活化材料表面来改善灌封化合物、粘合剂、油墨、涂料和染料等的浸润性。PlasmaPen™清洁后的表面保证了半导体封装工艺中打线和芯片键合的可靠性。它已经成功地应用于平板显示制造业中提高异方性导电胶膜（ACF）的粘合性。

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德国 PVA TePla等离子清洗机80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plus，有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式，微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位，实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡，并且不会改变表面的粗糙度。

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美国 Harrick PDC-32G-2 基本型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

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美国 Harrick PDC-002 扩展型等离子清洗机，该产品能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

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美国 Harrich PDC-MG 高集成度等离子清洗机，是一款超清洗设备, 采用气体作为清洗介质，在短时间内能完全彻底地清除被清洗物表面的有机污染物，其清洗能力达到分子级。它具有性价比高、性能稳定、清洗效率高、操作方便、使用成本极低、易于维护等诸多优点。

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 690微波等离子系统芯片载体清洗

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美国CIF公司生产的等离子清洗机(plasma cleaner）不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。 工作原理等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 应用领域等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用，涉及材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等不同领域，主要用于以下实验：             ◆ 表面清洁 ◆ 表面活化◆ 键合 ◆ 去 胶◆ 金属还原 ◆ 简单刻蚀◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有机物◆ 疏水实验 ◆ 镀膜前处理等功能特征◆ 采用美国霍尼韦尔（Honeywell）真空压力传感器，性能稳定可靠；◆ 采用美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，流量控制准确；◆ 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；◆ 专利的弧形电极板设计，清洗更完全；◆ 电容式等离子激发方式；◆ 内置式等离子激发板；◆ 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈（石英舱可选）；◆ 触摸按键+4.3寸液晶显示屏+双浮子流量计组合系统控制；显示清晰，操作简单方便；◆ 两种工作模式：手动、自动，可根据客户需求任意切换；◆ 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；◆ 样品台升降（可选）◆ 无需任何耗材，使用成本低；◆ 免维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；◆ 整机保修一年。技术参数：

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美国CIF公司生产的等离子清洗机(plasma cleaner）不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。 工作原理等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。应用领域​等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用，涉及材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等不同领域，主要用于以下实验：◆ 表面清洁 ◆ 表面活化◆ 键合 ◆ 去 胶◆ 金属还原 ◆ 简单刻蚀◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有机物◆ 疏水实验 ◆ 镀膜前处理等功能特征◆ 采用美国霍尼韦尔（Honeywell）真空压力传感器，性能稳定可靠；◆ 采用美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，流量控制准确；◆ 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；◆ 专利的弧形电极板设计，清洗更完全；◆ 电容式等离子激发方式；◆ 内置式等离子激发板；◆ 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈（石英舱可选）；◆ 触摸按键+4.3寸液晶显示屏+双浮子流量计组合系统控制；显示清晰，操作简单方便；◆ 两种工作模式：手动、自动，可根据客户需求任意切换；◆ 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；◆ 样品台升降（可选）◆ 无需任何耗材，使用成本低；◆ 免维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；              ◆ 整机保修一年。          技术参数：

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PDC-MG型等离子清洗机是一款超清洗设备, 采用气体作为清洗介质，在短时间内能完全彻底地清除被清洗物表面的有机污染物，其清洗能力达到分子级。它具有性价比高、性能稳定、清洗效率高、操作方便、使用成本极低、易于维护等诸多优点。

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1.舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料，耐用、防腐容易清洁。 2.仪器实现了手动，自动两种模式任意切换的工作方式，方便用户实验 3.仪器实现了程序化设计，预先编辑好程序，仪器可以自动完成实验 4.无需任何耗材使用成本低，无需特殊进行维护,日常使用保持仪器清洁即可 5.电容式等离子激发，处理效果均匀，激发电极板内置样品仓内顶部悬挂 6.密闭真空环境下完成实验避免二次污染 7.13.56Mhz射频电源,扫频自动匹配，稳定可靠，具有自动保护功能。 8.灵活的参数设置和修改功能，可适应多种处理工艺。 9.采用皮拉尼真空技术，实时检测和显示样品仓的真实真空度，具有1Pa的真空分辨率，能够方便的接入MFC气体流量控制仪，实现对气体流量和真空度的精准控制和监测。 10. 液晶屏+薄膜数字按键控制方式，操作直观简单稳定可靠。

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性能特点 专为敏感基材设计 手持操作 高效激发冷等离子体 直接放电，低输入电压、高输出电压 等离子功率密度高 产生温度<50°C冷等离子体 不需外部气体供应 设计精巧 使用简单 运行可靠 可变喷嘴 免维护

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等离子功率密度高 高效激发冷等离子体 产生温度< 50°C冷等离子体 直接放电，低输入电压、高输出电压 手持操作 适用于几乎所有的材料 设计集成气体连接 用压缩空气或氮气操作 易于集成到系统 通过外部开关信号发射 操作安全 可变喷嘴，为特殊材料和结构 可固定安装或移动

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设计简洁 高速度 高功率密度脉冲点火 易与生产线设备集成一体化 易于CAN BUS通信控制系统集成 一键式等离子体功能可独立启动运行 Q3监测高质量控制要求和输出最重要功率 不损害基体表面情况下改善活化性能 显著提高产品的表面预处理质量 增加粘结可靠性和稳定性 生产可控性强，品质一致性好 全程干燥处理，无需化工溶解剂和水 适合压缩空气 良好地维护

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。IoN Wave 10Gas Plasma System气体等离子系统实验室或中试规模的台式微波系统的理想选择，阻灰化，晶圆清洗和开封的电子设备。

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。PS 400微波等离子清洗系统400系列芯片载体清洗PS 400 IL微波等离子体系统的400系列芯片载体清洗PS 400 H2微波等离子体系统的400系列芯片载体与氢气发生器清洗

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 80 Plus全自动微波等离子清洗机的个别基板。适用嵌入式解决方案或独立的工具产品信息: 80 Plus GIGA HS: PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革产量方面的业界新标准:高收率支持 100x300mm 框架在SEMICON Taiwan 2012展出(基希海姆慕尼黑, 2012年10月19日)-PVA TePla位于基希海姆/慕尼黑的等离子系统事业部在2012年台湾SEMICON公布了下一代的片式处理等离子系统 (支持100x300mm的框架-高速等离子系统, 在产量方面树立了业界的新标准。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利, 对比与其他框架和基板片式处理等离子系统, 该设备是世界上唯一一个单腔体支持片尺寸转换, 运输和处理并提升了3倍UPH的设备。<该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前, 塑封前, 倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。80 Plus支持射频(RF)和微波(MW)技术, 各根据客户的需求提供最佳的工艺解决方案。在半导体微芯片封装中, 引线键合前通过等离子提高焊盘清洁度是必不可少的。通过等离子清洗, 球剪切力和线拉力的改善是非常显著的。等离子清洗和活化作用可应用于提高塑封料的粘合, 消除因为分层引起的收率损失。在倒装片工艺中, 底部填充前微波等离子清洗已经成为提高收率必不可少的工艺。先进的倒装片产品在市场中越来越重要, 微波等离子在处理芯片底部超小空隙上是无与伦比的。

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等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。产品特点● 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠； ● 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确； ● 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定； ● 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈； ● 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换； ● 触摸按键+4。3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单； ● 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程； ● 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可；技术参数● 舱体的尺寸2758X110(直径)mm(295X150(直径)） ● 舱体容积:2。6L(5。2L) ● 射频频率：40KHz ● 设定时间 0-99分59秒 ● 气体稳定时间：1分钟 ● 等离子激发方式：电容式 ● 整机重量：15kg(20kg) ● 射频功率：10-200W无极可调 等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学 生物学等不同领域,主要用于以下实验： ● 材料研究,表面改性达到亲水的效果； ● 材料研究,用于材料表面的改性,达到一个疏水的效果,俗称的荷叶效果； ● 材料老化的实验,主要以氧离子进行相关的工艺设计； ● 材料的键合,通过仪器处理,增加材料表面的亲和性,已达到快速键合的效果 ● 器械的消毒,消毒效果完美； ● 用于相关的镀膜实验。

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10.5 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术等离子设备 Atto，配有手动控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统，用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻等离子设备 Atto，配有外部 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统，用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统等离子设备 Atto，配有内置式 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统，用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统系列Atto 手动控制Atto 外部PC控制Atto 集成PC控制控制系统手动型、通过模拟计时器测定工艺时间PC-控制系统 (Microsoft Windows XP)PC-控制系统 (Microsoft Windows CE)体积10.5L真空腔室玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm样品支架1个样品支架气源2 个由针型阀控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道高频电流发生器40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配真空泵5 m3/h外尺寸宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm电源电压AC220V