供应商：华仪行（北京）科技有限公司

采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠； 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确； 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定； 弧形电极板设计，清洗更完全； 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈； 手动、自动两种工作模式，可根据客户需求任意切换； 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单； 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程； 无需任何耗材，使用成本低； 无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可； 整机保修一年。

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等离子清洗机等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体柔柔冲洗被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子清洗机的清洗分类：  反应类型分类        等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面zui终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。        以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性；缺点就是对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较，化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。        典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。  激发频率分类  等离子态的密度和激发频率有如下关系：  nc=1.2425×108v2  其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。  常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。  不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响zui大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。等离子清洗机应用领域：      包装行业：专业针对UV OPP PP PET金银卡　磨光，覆膜纸盒或纸箱上胶前的表面处理，经等离子处理后，可增加糊盒的牢固性，摆脱开胶烦恼。并可减少胶水使用量，有效降低成本。　　印刷及喷码行业：塑料　玻璃　金属　复合材料等表面丝印，移印前等离子预处理，可提高材料表面对油墨的吸附力，渗透力。IC卡　标签，日化用品容器。电线喷码前等离子预处理，提高油墨吸附力。　　塑料行业：塑料与塑料，橡胶，金属，玻璃等粘结前预处理，可提高表面的粘结性能。手机电脑玩具等塑料外壳喷漆前预处理，提高油漆的附着力，防止掉漆。　　日用品及家电行业：日用主家电产品在生产过程中的涂装，粘接等工艺，使用等离子预处理提高材料表面的加工性能，提高粘接和涂装的品质，别外等离子清洗作用使溶剂清洗不再需要，即环保又节省了大量的清洗干燥时间。　　汽车行业：　１、EPDM胶条在喷涂润滑涂层或植绒胶水以前的预处理工艺，借助等离子技术，胶条的预处理过程变得更加稳定高效，而且没有磨损。　２、汽车车灯粘接，刹车片，雨刮，引擎控制器盖，汽车仪表，汽车保险杠等等都可使用等离子表面处理，清洁，活化部件的表面，增强表面的粘结力，吸附力。　３、汽车部件喷漆前的表面活化，使用等离子处理，水性涂装体系都可以做到无需底漆。　４、电子行业：电子元器件加工的等离子预处理，PCB的清洗，去静电，LED支架，晶圆，IC等的清洁或是粘结等作用。　５、其它行业：化纤　纺织，航天航空，卷材涂装等等。　　电子行业：半导体材料光刻　　胶清洗：光学材料镀膜，加硬前清洗。　　LCD玻璃印刷，贴合，封装前清洗，LED点银胶，引线键合，封胶前清洗，可提升产品质量。　　PCB电路板孔化，除渣，绑定处理，可提升镀铜结合力和焊接成功率。　　橡胶塑料行业：提高材料粘接强度以及印刷油墨，涂层，镀层附着力。　　纤维纺织行业：生产电池用无纺布隔膜，水处理用中空纤维及各种天然纤维，合成纤维经等离子处理可改善和提高其渗透性，亲水性，印染性等多种功能。精密仪器，机械及电器制造：继电器触点氧化层去除，精密零件表面油污，助焊剂等有机物清洗。电子点火器线圈骨架灌封环氧树脂前处理提高其粘接性及结合力。　　生物医用材料：聚笨乙稀酶标板经等离子接枝处理，引入醛基，氨基，环氧基等活性官能团，可把酶牢牢地固定在载体上面，提高酶的固定；细胞培养皿，经等离子处理后，大大提高了贴壁培养细胞的能力。　生物传感器的电极碳膜经过等离子活化，提高了酶和抗体固定的稳定性，实现电极重复使用。　血液过滤器的内壁和滤芯都需要等离子体的抗血凝处理，以提高其过滤能力和使用寿命。CPC-B美国CIF等离子清洗机产品特点：v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠；v 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确；v 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；v 弧形电极板设计，清洗更完全；v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈；v 手动、自动两种工作模式，可根据客户需求切换；v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单；v 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；v 无需任何耗材，使用成本低；v 无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；v 整机保修一年。CPC-B美国CIF等离子清洗机技术参数：

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v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠； v 采用美国气体浮子流量计，流量显示准确； v 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定； v 专利的弧形电极板设计，清洗更完全； v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈； v 手动、自动两种工作模式，可根据客户需求切换； v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单； v 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程； v 无需任何耗材，使用成本低； v 无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可； v 整机保修一年。

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等离子清洗机CPC-B-13。56美国CIF公司所生产的等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。等离子清洗机CPC-B-13。56清洗原理：    等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。    等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机CPC-B-13。56应用领域：    等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学  生物学等不同领域,主要用于以下实验：v 表面清洁  v 表面活化 v 键合 v 去胶 v 金属还原 v 简单刻蚀 v 器械的消毒v 去除表面有机物 v 疏水实验v 镀膜前处理等等离子清洗与传统湿法清洗九大优势：v 等离子体清洗技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗；v 等离子清洗是干性清洗,无需再次干燥处理,处理效率高；v 等离子清洗有效避免三氯乙烷等有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗对样品的损坏；v 等离子清洗不会产生有害污染物,绿色环保无污染；v 等离子清洗更完全,不会因为清洗样品的形状和角度清洗不干净；v 等离子清洗效率高,几分钟内即可完成；v 等离子清洗设备成本低,由于不使用价格昂贵的有机溶剂,所以整体成本低于传统的湿法清洗；v 等离子清洗清洁卫生,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施；v 等离子体清洗可改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等。等离子清洗机CPC-B-13。56产品特点：v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠；v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确；v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定；v 弧形电极板设计,清洗更完全；v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈；v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换；v 触摸按键+4。3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单；v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程；v 无需任何耗材,使用成本低；v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可；v 整机保修一年。等离子清洗机CPC-B-13。56技术参数：序号型号CPC-ACPC-BCPC-A-13。56CPC-B-13。561舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm2舱体容积2。6L5。2L2。6L5。2L3射频频率40KHz13。56MHz4射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调5电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ6电 流1。2A1。2A7时间设定1-99分59秒1-99分59秒8气体稳定时间1分钟1分钟9真空度100pa以内100pa以内10激发方式电容式电容式11外形尺寸L*W*H 460X580X220mm520X580X285mm460X580X220mm520X580X285mm12整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg 

供应商：上海沛沅仪器设备有限公司

PLUTO-M是一种非破坏性的表面处理设备，它是利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，该等离子体以一定能量作用于样品表面，引起分子结构改变和表面形貌的纳米级变化，从而达到对样品表面进行改性和分解污染物的目的。 PLUTO-M是一款将真空式等离子体技术应用于各种不同领域的研究性操作平台，除了实现常规清洁样品和表面改性的功能外，通过添加不同的功能模块，可以实现等离子体镀膜，等离子体合成反应，等离子体纯化等功能。极大的拓展该设备的应用领域。 等离子表面处理技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。PLUTO-M小型等离子表面处理设备以体积小、成本低、操作简便等特点广泛应用于科研及小批量生产场合。

供应商：上海沛沅仪器设备有限公司

专利气体输送系统，提供气体分配均匀性和灵活的气体分配方法 不同工艺模式（RIE、下游等离子体等）的柔性电极配置 独特的射频系统提供卓越的工艺重复性和处理效率 全自动处理能力 图形用户界面支持配方编辑器、配方驱动流程并提供实时流程信息 台式设计需要较小的占地面积

供应商：浙江扬清芯片技术有限公司

1.完全彻底地清除表面有机污染物。 2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。 3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。 4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。 5.常温条件下清洗，被清洗物的温度变化微小。 6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。辽宁11选5开奖

供应商：辽宁11选5开奖浙江扬清芯片技术有限公司

Harrick扩展型等离子清洁器是一种紧凑的、廉价的桌面型等离子仪器，带有铰链门、观察窗和精细控制计量阀，适用于纳米级表面清洁和小样品的激活。

供应商：浙江扬清芯片技术有限公司

1.完全彻底地清除表面有机污染物。 2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。 3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。 4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。

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美国CIF公司生产的等离子清洗机(plasma cleaner）不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。 工作原理等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 应用领域等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用，涉及材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等不同领域，主要用于以下实验：             ◆ 表面清洁 ◆ 表面活化◆ 键合 ◆ 去 胶◆ 金属还原 ◆ 简单刻蚀◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有机物◆ 疏水实验 ◆ 镀膜前处理等功能特征◆ 采用美国霍尼韦尔（Honeywell）真空压力传感器，性能稳定可靠；◆ 采用美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，流量控制准确；◆ 独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；◆ 专利的弧形电极板设计，清洗更完全；◆ 电容式等离子激发方式；◆ 内置式等离子激发板；◆ 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈（石英舱可选）；◆ 触摸按键+4.3寸液晶显示屏+双浮子流量计组合系统控制；显示清晰，操作简单方便；◆ 两种工作模式：手动、自动，可根据客户需求任意切换；◆ 智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；◆ 样品台升降（可选）◆ 无需任何耗材，使用成本低；◆ 免维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；◆ 整机保修一年。技术参数：

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美国CIF公司生产的等离子清洗机(plasma cleaner）不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。 工作原理等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。应用领域​等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学、生物学等不同领域,主要用于以下实验：◆ 表面清洁 ◆ 表面活化◆ 键合 ◆ 去 胶◆ 金属还原 ◆ 简单刻蚀◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有机物◆ 疏水实验 ◆ 镀膜前处理等功能特征◆ 采用美国霍尼韦尔（Honeywell）真空压力传感器,性能稳定可靠；◆ 采用美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计,流量控制准确；◆ 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定；◆ 专利的弧形电极板设计,清洗更完全；◆ 电容式等离子激发方式；◆ 内置式等离子激发板；◆ 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈（石英舱可选）；◆ 触摸按键+4。3寸液晶显示屏+双浮子流量计组合系统控制；显示清晰,操作简单方便；◆ 两种工作模式：手动、自动,可根据客户需求任意切换；◆ 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程；◆ 样品台升降（可选）◆ 无需任何耗材,使用成本低；◆ 免维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可；              ◆ 整机保修一年。          技术参数：

供应商：香港电子器材有限公司

PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。IoN Wave 10Gas Plasma System气体等离子系统实验室或中试规模的台式微波系统的理想选择，阻灰化，晶圆清洗和开封的电子设备。

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。PS 400微波等离子清洗系统400系列芯片载体清洗PS 400 IL微波等离子体系统的400系列芯片载体清洗PS 400 H2微波等离子体系统的400系列芯片载体与氢气发生器清洗

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 690微波等离子系统芯片载体清洗

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PVA是历史悠久的德国高科技上市公司，在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位；PVA TePla是PVA的一个部门，专业制造等离子清洗机，广泛应用于电子，塑料，橡胶，玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家，PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 80 Plus全自动微波等离子清洗机的个别基板。适用嵌入式解决方案或独立的工具产品信息: 80 Plus GIGA HS: PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革产量方面的业界新标准:高收率支持 100x300mm 框架在SEMICON Taiwan 2012展出(基希海姆慕尼黑, 2012年10月19日)-PVA TePla位于基希海姆/慕尼黑的等离子系统事业部在2012年台湾SEMICON公布了下一代的片式处理等离子系统 (支持100x300mm的框架-高速等离子系统, 在产量方面树立了业界的新标准。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利, 对比与其他框架和基板片式处理等离子系统, 该设备是世界上唯一一个单腔体支持片尺寸转换, 运输和处理并提升了3倍UPH的设备。<该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前, 塑封前, 倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。80 Plus支持射频(RF)和微波(MW)技术, 各根据客户的需求提供最佳的工艺解决方案。在半导体微芯片封装中, 引线键合前通过等离子提高焊盘清洁度是必不可少的。通过等离子清洗, 球剪切力和线拉力的改善是非常显著的。等离子清洗和活化作用可应用于提高塑封料的粘合, 消除因为分层引起的收率损失。在倒装片工艺中, 底部填充前微波等离子清洗已经成为提高收率必不可少的工艺。先进的倒装片产品在市场中越来越重要, 微波等离子在处理芯片底部超小空隙上是无与伦比的。

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辽宁11选5开奖 等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。产品特点● 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠； ● 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确； ● 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定； ● 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈； ● 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换； ● 触摸按键+4。3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单； ● 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程； ● 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可；技术参数● 舱体的尺寸2758X110(直径)mm(295X150(直径)） ● 舱体容积:2。6L(5。2L) ● 射频频率：40KHz ● 设定时间 0-99分59秒 ● 气体稳定时间：1分钟 ● 等离子激发方式：电容式 ● 整机重量：15kg(20kg) ● 射频功率：10-200W无极可调 等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学 生物学等不同领域,主要用于以下实验： ● 材料研究,表面改性达到亲水的效果； ● 材料研究,用于材料表面的改性,达到一个疏水的效果,俗称的荷叶效果； ● 材料老化的实验,主要以氧离子进行相关的工艺设计； ● 材料的键合,通过仪器处理,增加材料表面的亲和性,已达到快速键合的效果 ● 器械的消毒,消毒效果完美； ● 用于相关的镀膜实验。

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10.5 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型，配有 PC 和 PCCE 控制系统，主要用于以下领域：小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术等离子设备 Atto，配有手动控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统，用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻等离子设备 Atto，配有外部 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统，用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统等离子设备 Atto，配有内置式 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统，用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统系列Atto 手动控制Atto 外部PC控制Atto 集成PC控制控制系统手动型、通过模拟计时器测定工艺时间PC-控制系统 (Microsoft Windows XP)PC-控制系统 (Microsoft Windows CE)体积10.5L真空腔室玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm样品支架1个样品支架气源2 个由针型阀控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道高频电流发生器40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配真空泵5 m3/h外尺寸宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm电源电压AC220V

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Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机 PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果：PlasmaBeam清洗过的区域，喷水后没有残留水滴。更多应用请来电咨询：021-61552797底材：铝底材：塑料参数：型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反应气休/冷却气体无油空压机无油空压机无油空压机气体压力5-8bar5-8bar5-8bar气体流量2m3/h2m3/h4m3/h离子束手柄单只直径32mm长度270mm重量0.6kg电缆长度3m，Φ19mm(可订制）处理的最大宽度为12mm两只其它参数同前操作模式手动控制/远程控制MS-Windows控制无有无电源AC230V/6A/50~60Hz尺寸（mm）W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

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PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为Φ8.5"×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0-100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。主要特点1、采用6″彩色触摸屏，可控制射频功率、清洗时间、气体流量、真空泵的开启等。2、内部配有0-500mm/min的质量流量计，可以精确地控制进气流量。技术参数1、电源：AC220V2、射频功率：最大100W，可在0-100W间调节3、真空泵功率：<500W4、总功率：<600W5、射频：13.56MHz6、等离子腔体：高纯石英腔体，外径Φ8.5"，内径Φ8.2"，长12"，采用铝制折叠式法兰进行真空密封，法兰设有一个 Φ60mm的观察窗口7、极限真空度：50mtorr8、通入气体：可通入多种气体，如N2、Ar、Air、H2、O2和混合气体等等（根据材料性质所定）清洗及蚀刻产品规格尺寸：620mm×450mm×600mm标准配件1、直连式双旋真空泵（240L/min）2、KF25波纹管3、KF25手动挡板阀可选配件1、300W、600W射频电源（进行等离子刻蚀和等离子灰化等实验）2、2″-6″石英舟（盛放基片）3、2-4通道浮子混气系统4、2-4通道质子混气系统

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PCE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内彻底清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。另外，其样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。主要特点1、采用气体作为清洗介质，避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。2、可短时间内彻底清洗掉有机污染物。3、清洗程度可达到分子级。4、可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。5、清洗过程中的辉光放电可对某些特殊用途的材料加强粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。6、样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。7、广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。技术参数1、电压：AC220V 10A2、消耗功率：<500W（包括真空泵）3、RF电源：输出功率100W，输出频率13.56MHz4、腔体：Φ190mm×98mm5、石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm6、内腔：Φ165mm×55mm7、清洗电极：Φ120mm8、样品台：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm9、样品台与电极间距：15mm-50mm可调10、抽气管：Φ12mm11、极限真空度：0.1Pa12、工作真空度：60Pa-500Pa13、气路数量：2路（选装）14、流量控制器数量：1、215、流量显示仪：2通道16、气路接口：Φ6mm17、加热样品台：Φ140mm，加热样品温度RT-600℃±1℃（选装）18、冷却水压力：0.2KPa-0.4KPa19、工作环境：温度5℃-35℃，湿度<80%（相对湿度）不结露，海拔高度0-2000m产品规格尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）重量：20kg（不含真空泵）可选配件1、加热样品台2、流量控制器（量程10、50、100，最多可增加2个通道）

供应商：辽宁11选5开奖阜阳市微旺电子商务有限公司

1.完全彻底地清除表面有机污染物。 2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。 3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。 4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。 5.常温条件下清洗，被清洗物的温度变化微小。 6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。辽宁11选5开奖

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供应商：赛福仪器承德有限公司

CIF等离子清洗机(plasma cleaner）不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。

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CIF转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计！在等离于体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，CIF转瓶等离子清洗机应用可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

2.6L腔体，适合实验室研发平台。高性价比，提供工艺支持与样品测试。

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

2.2L-3L腔体，小型精密桌面型设备，高性价比。 半自动与全自动可选， 发生器频率可选。 提供工艺支持与样品测试。

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

10.5L腔体，小型精密桌面型设备，高性价比。 半自动与全自动可选， 发生器频率可选。 提供工艺支持与样品测试。

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

5~8L腔体，小型精密桌面型设备，高性价比。 半自动与全自动可选， 发生器频率可选。 提供工艺支持与样品测试。

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

18~24L腔体，超过24L可定制。 精密桌面型设备，高性价比。 半自动与全自动可选， 发生器频率可选。 提供工艺支持与样品测试。辽宁11选5开奖

供应商：旭阿科技（上海）有限公司

34L腔体，超过34L可定制大腔体， 生产型设备，高性价比。 半自动与全自动可选， 发生器频率可选。 提供工艺支持与样品测试。

供应商：香港电子器材有限公司

产品简介独有的微波等离子(化学)清洗方式有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式，微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位，实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡，并且不会改变表面的粗糙度。随着封装技术的进步，在倒装和叠晶片等封装中，射频等离子清洗并不能达到工艺要求，微波等离子清洗的特点和优势使得更多用户的选择和使用PVA TePla。等离子清洗在倒装芯片封装技术的已成为必须的过程, 提高产量。先进的倒装芯片设备在业界获得显着性，在穿透分钟的差距的模具下，微波等离子体过程是无与伦比的。根据不同模具的体积，所有表面均可被完全激活和控调。PVA TePla 的微波等离子体一向可执行，无空隙的倒装芯片底部填充胶，最佳的附着力和显着增强的吸湿排汗速度。适合程度的应用远远超出了芯片尺寸20x20mm和50μm以下的bumps。   PVA TePla等离子清洗系统在半导体的应用：Ø 射频等离子在IC封装的应用Ø 微波等离子在倒装芯片(Flip chip)工艺的应用80 Plus HS微波等离子系统是PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利，对比与其他框架和基板片式处理等离子系统，该设备是世界上唯一一个单腔体支持片尺寸转换，运输和处理并提升了3倍UPH的设备。该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前、塑封前、倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。产量方面的业界新标准:• 高效率 • 支持 100x300mm 框架• 最高UPH达到900 strips/Hr80 Plus HS微波等离子系统* 即将推出新型的Inline等离子清洗系统，更高的UPH，更高的性价比。敬请期待PVA TePla 其它等离子清洗系统产品：！IoN Optimus 100射频等离子系统GIGA 690微波等离子系统80 Plus微波等离子系统除半导体外的其它应用：生命科学 (LIFE SCIENCE)气体等离子体(Gas Plasma)技术常用在精密清洗和激活，去污的表面，促进功能的生物分子的粘附和结合特定的化学蒸气灭菌的生物体内和体外的医疗设备。电子 (ELECTRONICS)等离子用于在电子工业中各种各样的应用程序，包括从密封剂和粘合剂的粘合促进，提高释放光盘母版压模上的物质。工业等离子体应用 (INDUSTRIAL PLASMA APPLICATIONS)PVA TePla 是微波等离子体处理用于制造微芯片、MEMS器件、光伏电池、平板显示器和探测器，和大多数工业应用的市场领导者。• 增进附着力(ADHESION PROMOTION)• 重要的清洁(CRITICAL CLEANING)IoN 100 等离子体系统IoN 100 是专为满足广大客户不断变化的需求而设计，它强调多功能性和控制他们的表面处理需求。其功能提供最先进的过程控制状态，故障安全系统报警和数据采集软件。这使系统在生命科学产业，以满足严格的质量控制程序。气体等离子体系统 - 等离子体笔Atmospheric Plasma System - Plasma Pen• 生命科学与医疗器械产品• 汽车、航天、航海方面• 芯片级器件• 电子产品包装• 平板显示器• 电线、电缆、光纤• 玻璃制造

供应商：香港电子器材有限公司

产品简介全新!INLINE高产量PECVD系统 (Inline High Capacity PECVD Systems)ILHC是一个连续的高速真空等离子系统。它提供了等离子体辅助化学气相沉积(PECVD),蚀刻,清洗和活化在高生产环境全过程控制。ILHC是为了满足广大客户的高产能量的要求。它提供了快速的工艺处理时间,卓越的均匀性和精确的厚度控制。它提供先进的过程控制,故障安全报警和完整的数据采集和报告软件系统。ILHC使用射频(RF)产生的等离子体,结合独特的传送系统中清楚地阐明和完全集成封装。该设计便于安装和维护。特性:• 连续流处理• 定制托盘和基板夹具• 可配置的等离子源设计从小到大可扩展• 三维零件或超高容量小零件加工• 根据工艺要求,灵活地用RF功率发生器和AMU• GUI图形用户界面软件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101• 自家开发的用户访问控制系统• 可准确地控制Lot-to-Lot的重复性• 通过以太网远程统计过程控制监控• 具即时诊断功能和警报记录• 配方编辑器提供了快速和灵活的步控制功能• 大LCD触摸设置,Windows®的控制面板和键盘• 免人手操作　可进行多种类界面 * 输出功率高达 ：每月500,000 devices（基本尺寸 ：1” x 1” Devices） * 根据界面的形状：非均匀性降低至5%　　RF 射频等离子清洗/镀膜系统　IoN 3B　特性:腔室尺寸(W x D x H): 140mm x 200mm x 110mm功率: 100 Watts气体喷淋: Integrated door单个气体管路: Mass Flow Controller for gas control, 50 sccm可视窗口: 45mm dia。显示屏: 7" touch screen, PC Interface编程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can压力测量: Pirani Gauge　IoN 7B　特性:腔室尺寸(W x D x H): 200mm x 220mm x 160mm功率: 200 Watts气体喷淋: Integrated door单个气体管路: Mass Flow Controller for gas control, 100 sccm可视窗口: 45mm dia。显示屏: 7" touch screen, PC Interface编程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can压力测量: Pirani Gauge